等离子清洗机清洗原理（等离子清洗机清洗原理图）

等离子清洗机清洗原理

  等离子清洗机清洗原理如下：等离子清洗/刻蚀机产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电场， 等离子清洗/刻蚀机产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极,形成电场,这些电位差使金属表面发生氧化腐蚀。由于产生的等离子体有很强的活性和吸附性,所以可以有效去除污染物中的杂质并保持材料原有的物理性能、化学性和生物特性。,在进行清洗过程中,还可以通过改变溶剂与基材之间的界面状态来降低或消除污染物质对基材造成的影响;,选择合适的工艺条件能够提高清洗效果及延长使用寿命。

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  原理:

  等离子体是一种具有强烈电子转移作用的固态粒子或半导体分子。这些粒子或半导体在介质的作用下以各种形式存在于被处理物体上(如陶瓷、塑料、玻璃等),从而达到清洁目的的过程。等离子的种类很多,其中,阴阳极是影响清洗质量的主要因素。一般,阴极上的物质包括:盐酸、氢氟酸、氨水以及硫磺等。这类物质在光照条件下的强度比氧气小得多,而氯化氢、二氧化碳更易受到阳光照射,并且容易从反应器壁剥落,从而加速了锈迹清除过程。

  ,还可用于清洗油脂、有机废料、涂层、颜料残留物等等。等离子清洗机又分为真空式和浸没式两种类型:

  (1)真空泵式

  真空抽滤设备是由高压风机、空压机及空气压缩机组成,利用真空泵将压缩气体送入待净化空间。~,改善工人工作环境;

  (2)喷雾干燥法

  用超声波清洗机进行机械搅拌,使之充分混合;加入少量的水蒸汽,使之加热至50°C左右,然后经旋转刮板由低速电机带动叶片高速运动,再通过排污口排出。其特点是不需要添加任何助凝剂,无需添加任何润滑油,无耗材费用。该产品适用于各类形状复杂的物品及多种材质,如手机壳、液晶显示屏等的零部件清洁;

等离子清洗机清洗原理图

   等离子清洗机是将活性氧(H2O2)与水、二氧化碳和空气进行反应,生成臭氧和水分子的设备。它可以去除油污,并使表面洁净度得到改善。

  主要由等离子体材料及其他辅助元件构成的。其基本原理是在常温下使用时形成电子束。

  等离子清洗过程可分为:超声波清扫/浸渍法、干式电解法、喷射处理法、蒸汽洗涤法和热风干燥法四大类。

  超声波是通过振动或冲击作用来实现对物体表面污染物的物理吸附和化学转化的过程。在等离子场中,介质中的自由基如OH-和Cl—等被激发成强烈的空化能而加速污垢粒子之间的相互作用和结合从而达到清洗的目的。在等离子气氛的作用下,液体中的氧分子以正负极性的势能进入到等离子体表面上,并在等离子的推动力下发生等速运动,从而破坏了污物间的联系和界面。当这种现象发生在等离子体表面时,这些效应就会减弱或者消失,并且会产生新的等离子体,这部分能量称为“再生”动力,即“新物质”。该能量来源于气体、液态金属、固态塑料等,而等离子体则通过吸收光合作用后释放出等离子体,其中的离子交换膜就是等离子体的基本结构,也就是说,等离子体能够改变物质内部的状态,从而改变物体表面的性质。